?平面鋁合金靶AI Alloy

化學式：Al Alloy                                                成型工藝：擠壓

密度：≥2.7g/cm3（≥97%）                              電阻率（Resistivity）（20℃）：<0.028 ohm.cm

純度：99.9%

應用：廣泛用于光學玻璃，觸摸屏玻璃膜系，導電玻璃，TF T-LCD，觸摸屏，半導體電子

最大加工尺寸：長度L2500*寬度W300*厚度T25mm，多片拼接幫定在銅背板上，按客戶要求定做

???平面鉬鈮靶MoNb??

化學式：MoNb                                             成型工藝：燒結擠壓

密度：≥9.7g/cm3（≥97%）                         電阻率（Resistivity）（20℃）：<0.187 ohm.cm

純度：99.95%

應用：廣泛用于光學玻璃，觸摸屏玻璃膜系，導電玻璃，TF T-LCD，觸摸屏，半導體電子

最大加工尺寸：長度L1500*寬度W300*厚度T10mm，多片拼接幫定在銅背板上，按客戶要求定做