化學式:In203:SnO2 成型工藝:冷等靜壓+高溫燒結+幫定 密度:≥7.13g/cm3(≥99.7%) 純度:≥99.99% 應用:主要用于TN,STN型液晶顯示器和觸摸屏,半導體電子,薄膜太陽能行業,建筑玻璃 最大加工尺寸:長度:530MM,厚度:6-13MM,直型、狗骨型,按客戶要求定做 |
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成型工藝:噴涂 密度:≥10.4g/cm(≥99%) 純度:≥99.99% 應用:主要用于Low-E鍍膜玻璃,薄膜太陽能行業,TFT-LCD,半導體電子 最大加工尺寸:長度:4000MM厚度:6-13MM,直型、狗骨型,按客戶要求定做 |
化學式:SiAl(90:10wt%±2%) 電阻率(20℃):≤0.1Ω.cm 成型工藝:噴涂 密度:≥2.22g/cm(≥95%) 純度:≥99.9% 應用:用于制作SiO2膜、Si3N4膜,主要用于光學玻璃AR膜系,LOW-E鍍膜玻璃,半導體電子電子,TFT-LCD,平面顯示,觸摸屏玻璃 最大加工尺寸:長度:4000MM厚度:6-13MM,直 |
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