?氧化??銦In2O3?

化學式：In2O3                                             英文名：Indium Oxide

分子量：277.63400                                      密度：7.179g/cm（25℃）

蒸氣壓（mmHg，25℃）：<0.01                 溶解性：不溶于水，溶于熱的無機酸

制備工藝：中和沉淀+干燥+般燒純度：≥99.99%

應用：大量應用于光電行業等高新技術領域和軍事領域，特別適用于加工為鋼錫氧化物（ITO）靶材，制造透明電極和透明熱反射體材料，用于生產平面液晶顯示器和除霧冰器。

?旋轉氧化鈮靶NbOx??

化學式：Nb2Ox（4.3<x<4.9）                               電阻率（20℃）：≤0.1Ω.cm

成型工藝：噴涂                                                       密度：≥4.3g/cm2（≥95%）

純度：≥99.95%

應用：主要用于LOW-E鍍膜玻璃，薄膜太陽能電池電極膜系，TFT-LCD，半導體電子

最大加工尺寸：長度：4000MM厚度：6-10MM，直型、狗骨型，按客戶要求定做